지난 7월7일 오전 서울시 서초구 삼성전자 서초사옥 지하에서 직원 등이 오가고 있다. /사진=뉴스1


삼성전자가 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML이 주도하는 '대형 마스크 컨소시엄'에 참여하고 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나선다고 8일 밝혔다.

대형 마스크 컨소시엄은 현재 반도체 노광설비에 사용되는 6인치를 12인치로 전환하기 위한 협의체다. 노광설비와 포토 마스크 관련 글로벌 기술 동향을 함께 모니터링하고 12인치 포토 마스크 개발을 목표로 공동 연구 및 표준 개발 등의 협력 활동을 펼친다.



포토 마스크는 미세 회로 패턴을 정교하게 새긴 정밀 '마스크'(틀)로 노광설비 내 빛을 통해 웨이퍼에 설계된 패턴을 새기는 필수 도구다. 회로를 새기는 정밀도가 반도체 성능과 수율을 결정짓는다.

그동안 반도체 노광 공정에는 6인치 마스크가 사용됐다. 이제 하이 NA EUV 도입과 함께 12인치 마스크로 전환할 경우 나눠 새기고 이를 연결하는 작업 제약을 해소할 수 있어 팹 생산성을 높이는 동시에 칩 제조 비용을 낮출 수 있다.

특히 설계 단계에서 수백억개의 트랜지스터를 정밀하게 배치하는 첨단 반도체의 경우 12인치 마스크를 통해 하이 NA EUV 설비 이점을 온전히 활용할 수 있다. 삼성전자는 오랜 EUV 사용 경험과 기술 리더십을 바탕으로 12인치 포토마스크 전환에 핵심 역할을 수행할 전망이다.



삼성전자는 ASML과 오는 2028년까지 첨단 D램 제조에도 차세대 노광 설비 하이 NA EUV을 도입할 방침이다. 양사 협력은 하이 NA 기술이 첨단 메모리 제조에도 적용될 준비가 되었다는 것을 의미한다. 향후 정밀한 패터닝을 통해 D램 미세화 로드맵을 연장하고 공정 단순화와 생산성 제고를 모두 실현할 수 있을 것으로 관측된다.

전영현 삼성전자 대표이사 부회장은 "AI 시대는 반도체 산업 패러다임을 바꾸고 있으며 밸류체인 전반에서 기술 혁신의 중요성을 더욱 높이고 있다"며 "삼성전자는 혁신 기술과 강한 파트너십을 바탕으로 파운드리와 메모리를 포함한 첨단 반도체 제조 리더십을 이어가고 ASML과의 협력을 한층 강화함으로써 '넥스트 AI'를 위한 기술 기반을 마련해 나갈 것"이라고 했다.

크리스토프 푸케 ASML CEO는 "삼성전자는 오랜 기간 ASML의 가장 중요한 혁신 파트너 중 하나로 그동안 현대 반도체 제조의 기반이 되는 기술을 함께 발전시켜 왔다"며 "AI가 이끄는 새로운 시대를 맞이해 삼성전자와 함께 차세대 반도체 제조를 위한 혁신을 이끌어 가기를 기대한다"고 전했다.